93 Treffer 

Overall
Device
BOX
Handle
AI46054
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
/
15 ±1 µm
<2
1.5 µm ±10%
/
/
/
/
380 ±10 µm
/
1
SiO2 on backside
AI46048
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
0.01-0.02
48.6 ±0.5 µm
<1
2.0 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
0.001-0.005
500 ±5 µm
/
21
SiO2 on backside
AN46018
150
0,2
/
/
N
Sb
<100> ±0.5°
0.008-0.02
100 ±1 µm
<2 µm
2.0 µm ±5%
N
Sb
<100> ±0.5°
0.008-0.02
548 ±5 µm
/
6
SiO2 on backside
AN46028
150
0,2
/
/
N
Sb
<100> ±0.5°
0.008-0.02
100 ±1 µm
<2 µm
2.0 µm ±5%
N
Sb
<100> ±0.5°
0.008-0.02
547 ±5 µm
/
8
SiO2 on backside
AN46033
150
0,2
/
/
N
Sb
<100> ±0.5°
0.008-0.02
100 ±1 µm
<2 µm
2.0 µm ±5%
N
Sb
<100> ±0.5°
0.008-0.02
548 ±5 µm
/
15
SiO2 on backside
AN46034
150
0,2
/
/
N
Sb
<100> ±0.5°
0.008-0.02
20 ±0.5 µm
<1 µm
3.0 µm ±5%
N
Sb
<100> ±0.5°
0.008-0.02
627 ±5 µm
/
46
SiO2 on backside
AN46002
150
0,2
/
/
N
Sb
<100> ±0.5°
0.01-0.02
10 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Sb
<100> ±0.5°
0.01-0.02
380 ±5 µm
/
4
SiO2 on backside
AN46011
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
0.01-0.02
41.5 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
0.01-0.02
500 ±5 µm
/
1
SiO2 on backside
AN46014
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
20 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
380 ±5 µm
/
23
SiO2 on backside
AN46017
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
5 ±0.5 µm
<1
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
550 ±5 µm
/
76
SiO2 on backside
AN46029
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
70 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
380 ±5 µm
/
5
SiO2 on backside
AI46009
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
14 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±10%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
300 ±5 µm
/
4
SiO2 on backside
AI46012
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
9 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±10%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
400 ±5 µm
/
25
SiO2 on backside
AI46014
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
5 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
550 ±5 µm
/
3
SiO2 on backside
AI46017
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
18.5 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
380 ±5 µm
/
15
SiO2 on backside
AI46022
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
60 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
500 ±5 µm
/
4
SiO2 on backside
AI46025
150
0,2
/
/
N
RPh
<100> ±0.5°
0.01-0.02
60 ±0.6 µm
<1 µm
0.5 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
0.01-0.02
500 ±5 µm
<1 µm
24
SiO2 on backside
AI46026
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
9 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±10%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
300 ±5 µm
/
25
SiO2 on backside
AI46032
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
5 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
400 ±5 µm
<1 µm
3
SiO2 on backside
AI46035
150
0,2
/
/
N
RPh
<100> ±0.5°
0.01-0.02
27 ±0.5 µm
<1 µm
1 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
0.01-0.02
300 ±5 µm
/
11
SiO2 on backside
AI46043
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
20 ±0.5 µm
<1
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
380 ±5 µm
<1
25
SiO2 on backside
CJ46005
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
0.01-0.02
40 ±1 µm
<2 µm
2.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
0.01-1
710 ±10 µm
/
37
/
AI46003
150
0,2
/
/
N
RPh
<100> ±0.2°
0.01-0.02
40 ±0.3 µm
<1 µm
2.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.2°
0.01-1
710 ±5 µm
/
132
SiO2 on backside
AI46052
150
0,2
/
/
N
Sb
<111> ±0.5°
<0.02
40 ±0.5 µm
<1
2.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
0.1-1
400 ±10 µm
/
1
SiO2 on backside
AI46053
150
0,2
/
/
N
Ph
<111> ±0.5°
0.01-0.1
40 ±0.5 µm
<1
2.0 µm ±10%
N
Ph
<100> ±0.5°
0.1-1
710 ±5 µm
/
10
SiO2 on backside
E44253
100
0,5
/
Front side polished
/
/
/
1-10
500 ±50 nm
/
2000 nm ±5 %
/
/
/
1-10
625-675 ±25 µm
/
2
/
AN46012
150
0,2
/
/
N
Sb
<100> ±0.5°
0.01-0.02
100 ±0.5 µm
<1 µm
2.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-10
575 ±5 µm
/
23
SiO2 on backside
AI46036
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.3-0.5
30 ±0.5 µm
<1 µm
2 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-10
300 ±5 µm
/
9
SiO2 on backside
AI46037
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
1-4
50 ±0.5 µm
<1 µm
2 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-10
500 ±5 µm
/
11
SiO2 on backside
AI46046
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
1-10
8 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±10%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-10
400 ±5 µm
/
37
SiO2 on backside
AI46056
150
0,2
/
/
N
Sb
<100> ±0.5°
0.01-0.02
100 ±0.5 µm
<1
2.0 µm ±10%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-10
575 ±5 µm
/
104
SiO2 on backside
E43013
76,2
0,5
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
1-10
5 ±0.5 µm
<1 µm
0.25 µm ±5 %
P
B
<100> ±0.5°
1-20
380 ±15 µm
/
16
/
AN46010
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
1-20
120 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-20
380 ±5 µm
/
13
SiO2 on backside
CJ46001
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
100 ±1 µm
<2 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±10 µm
/
100
/
CJ46002
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
25 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
50
SiO2 on backside
CJ46003
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
40 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
50
SiO2 on backside
CJ46004
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
4.6 ±0.4 µm
<1 µm
2.1 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
50
SiO2 on backside
AN46001
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
12.8 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
6
SiO2 on backside
AN46009
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
4.6 ±0.4 µm
<1 µm
2.1 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
10
SiO2 on backside
AN46019
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
28.4 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
98
SiO2 on backside
AN46021
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
20 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
90
SiO2 on backside
AN46022
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
30 ±1 µm
<2 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±15 µm
/
11
SiO2 on backside
AN46023
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
100 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
3
SiO2 on backside
AN46024
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
100 ±1 µm
<2 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
25
SiO2 on backside
AN46025
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
1-3
12.5 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
20
SiO2 on backside
AN46026
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
10 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
6
SiO2 on backside
AN46027
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
33 ±0.3 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
200
SiO2 on backside
AN46031
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
15 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
350 ±5 µm
/
1
SiO2 on backside
AN46032
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
100 ±1 µm
<2 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
675 ±25 µm
/
43
/
AI46001
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
25 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
230
SiO2 on backside
AI46004
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
25 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
33
SiO2 on backside
AI46005
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
22 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
28
SiO2 on backside
AI46006
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
4.6 ±0.4 µm
<1 µm
2.1 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
97
SiO2 on backside
AI46007
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
0.02-0.04
5 ±0.3 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
400 ±5 µm
/
20
SiO2 on backside
AI46008
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
1.5 ±0.3 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
36
SiO2 on backside
AI46010
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
3.0 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
300 ±5 µm
/
8
SiO2 on backside
AI46011
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
40 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
65
SiO2 on backside
AI46013
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
155 ±2 µm
/
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
1000 ±7 µm
/
22
SiO2 on backside
AI46015
150
0,2
/
/
N
RPh
<100> ±0.5°
<0.002
200 ±5 µm
/
3.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
42
SiO2 on frontside
AI46016
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
115 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
525 ±5 µm
/
5
SiO2 on backside
AI46018
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
200-500
25 ±1 µm
/
1.5 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
380 ±20 µm
/
23
SiO2 on frontside
AI46019
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
120 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
525 ±5 µm
/
5
SiO2 on backside
AI46020
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
22 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
4
SiO2 on backside
AI46021
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
28.4 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
3
SiO2 on backside
AI46024
150
0,2
/
/
N
RPh
<100> ±0.5°
0.02-0.04
2 ±0.4 µm
<1 µm
1 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
400 ±5 µm
/
20
SiO2 on backside
AI46027
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
32 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
49
SiO2 on backside
AI46028
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
140 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
350 ±5 µm
/
2
SiO2 on backside
AI46029
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
24 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
350 ±5 µm
/
3
SiO2 on backside
AI46030
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
4.6 ±0.4 µm
<1 µm
2.1 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
5
SiO2 on backside
AI46033
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
3 ±0.5 µm
<1 µm
1.5 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
300 ±5 µm
/
25
SiO2 on backside
AI46038
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
150 ±2 µm
<2
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
500 ±5 µm
<2
46
SiO2 on backside
AI46042
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
300 ±3 µm
<1
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
625 ±5 µm
<1
9
SiO2 on backside
AI46045
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
5 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
55
SiO2 on backside
AI46049
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
120 ±0.5 µm
<1
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
400 ±3 µm
/
10
SiO2 on backside
AI46051
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
40 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
350 ±5 µm
<1 µm
25
SiO2 on backside
AI46055
150
0,2
/
/
N
Sb
<100> ±0.5°
0.01-0.02
100 ±0.5 µm
<1
1.0 µm ±10%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
15
SiO2 on backside
AI46041
150
0,2
/
/
N
Sb
<100> ±0.5°
0.01-0.02
10 ±0.4 µm
<1
2.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
10-20
400 ±5 µm
<1
7
SiO2 on backside
AN46013
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
0.1-1
15 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
3-20
500 ±5 µm
/
1
SiO2 on backside
AI46047
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
/
15 ±1 µm
/
0.5 µm ±10%
N
Ph
<100> ±0.5°
3-9
500 ±5 µm
/
1
SiO2 on backside
AI46023
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
17-23
2.1 ±0.4 µm
<1 µm
0.5 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
4.8-7.2
675 ±5 µm
/
12
SiO2 on backside
AN46020
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
0.1-1
30 ±1 µm
<2 µm
0.5 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
5-20
500 ±5 µm
/
1
SiO2 on backside
AN46015
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
0.1-3
30 ±1 µm
<2 µm
0.5 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
5-30
500 ±5 µm
/
14
SiO2 on backside
E48025
200
0,5
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
1-50
60 ±1.5 µm
<2 µm
1.0 µm ±5 %
N
Ph
<100> ±0.5°
500-1000
670 ±15 µm
<10 µm
4
/
AN46007
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.0015
40 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.0015
500 ±5 µm
/
97
SiO2 on backside
AN46035
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
48.6 ±0.5 µm
<1 µm
2.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.002
500 ±5 µm
/
200
SiO2 on backside
AI46002
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
48.6 ±0.5 µm
<1 µm
2.0 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
<0.002
500 ±5 µm
/
168
SiO2 on backside
AI46044
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
1-5
49 ±0.5 µm
<1
1.0 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
<0.002
500 ±5 µm
/
21
SiO2 on backside
AN46003
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.005
33 ±0.3 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.005
550 ±5 µm
/
38
SiO2 on backside
AN46004
150
0,2
/
/
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
33 ±0.3 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.005
550 ±5 µm
/
13
SiO2 on backside
AN46005
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.005
100 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.005
500 ±5 µm
/
93
SiO2 on backside
AN46006
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.005
6 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.005
380 ±5 µm
/
5
SiO2 on backside
AN46008
150
0,2
/
/
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.005
20 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
<0.005
380 ±5 µm
/
22
SiO2 on backside
E48023
200
0,5
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-50
60 ±1.5 µm
<2 µm
1.0 µm ±5 %
P
B
<100> ±0.5°
>1000
670 ±15 µm
<10 µm
2
/
Anfrage Lagerbestand