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Saphir-Wafer für anspruchsvolle technische Anwendungen

Saphir ist ein vielseitig einsetzbares Substratmaterial, das sich durch hohe Materialqualität und vielfältige Bearbeitungsmöglichkeiten auszeichnet. SIEGERT WAFER bietet Saphir-Wafer in unterschiedlichen Durchmessern, Kristallorientierungen und Oberflächenqualitäten für Anwendungen in Forschung und Industrie.


Je nach technischer Aufgabenstellung können Saphir-Wafer mit verschiedenen Orientierungen, Dicken und Oberflächenfinishs ausgewählt werden. Auch ein definierter Fehlschnitt wird auf Wunsch berücksichtigt.


Zum Einsatz kommen Saphir-Wafer beispielsweise in der Optikindustrie, in Halbleiteranwendungen sowie in weiteren technischen Bereichen mit besonderen Anforderungen an Substrat und Oberfläche.

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Lagerbestand: Saphir-Wafer

Saphir-Wafer mit unterschiedlichen Kristallorientierungen

Die Kristallorientierung gehört zu den zentralen Auswahlkriterien bei einem Saphir-Wafer. Abhängig vom späteren Prozess stehen verschiedene Orientierungen zur Verfügung.


SIEGERT WAFER bietet unter anderem:


  • - C-Plane (0001),
  • - A-Plane (11-20),
  • - R-Plane (1-102),
  • - M-Plane (10-10).

Damit können Saphir-Wafer gezielt an unterschiedliche technische Anforderungen angepasst werden. Zusätzlich sind je nach Spezifikation Ausführungen mit definiertem Fehlschnitt möglich.


Wenn Sie nicht sicher sind, welche Orientierung für Ihren Prozess geeignet ist, unterstützen wir Sie gerne bei der Auswahl!

Oberflächenqualität bei Saphir-Wafern

Bei vielen Anwendungen entscheidet die Qualität der Oberfläche darüber, ob ein Substrat für den vorgesehenen Prozess geeignet ist. Deshalb sind Saphir-Wafer mit unterschiedlichen Oberflächenfinishs erhältlich.


Mögliche Ausführungen sind unter anderem:


  • - Optical Polished,
  • - Epi-Polished,
  • - Fine Ground,
  • - As Lapped.

Für polierte Saphir-Wafer sind sehr geringe Oberflächenrauigkeiten von bis zu Ra ≤ 0,3 nm möglich. Damit stehen auch Substrate für Prozesse mit besonders hohen Anforderungen an die Oberflächenqualität zur Verfügung.


Die Vorder- und Rückseite können abhängig von der gewünschten Ausführung unterschiedlich bearbeitet werden.

Hochreine Saphir-Wafer

Für technische Anwendungen sind Saphir-Wafer mit einer Reinheit von mindestens 99,99 % erhältlich. Je nach konkreter Ausführung kann die Reinheit auch darüber liegen.


Neben der Materialreinheit sollten bei der Produktauswahl auch Orientierung, Oberflächenqualität, Durchmesser und geometrische Anforderungen berücksichtigt werden. So lässt sich der benötigte Saphir-Wafer deutlich präziser definieren als nur über den Durchmesser.

Saphir-Wafer für Optik und Halbleitertechnik

Durch die Kombination aus verschiedenen Kristallorientierungen und hochwertigen Oberflächen eignen sich Saphir-Wafer für unterschiedliche technische Einsatzgebiete.


Dazu gehören unter anderem:


  • - Optikindustrie,
  • - Halbleitertechnik,
  • - Forschung und Entwicklung,
  • - technische Substrate,
  • - Anwendungen mit hohen Anforderungen an die Oberflächenqualität.

Welche Spezifikation benötigt wird, hängt dabei stark vom jeweiligen Fertigungsprozess ab. Für Forschungsprojekte können beispielsweise andere Anforderungen an Durchmesser und Oberfläche bestehen als bei industriellen Prozessen oder optischen Anwendungen.

Bearbeitung und Veredelung von Saphir-Wafern

Neben der Lieferung geeigneter Substrate kann SIEGERT WAFER verschiedene zusätzliche Bearbeitungsschritte anbieten.


Für Saphir-Wafer stehen unter anderem Dienstleistungen wie:


  • - Antireflexionsbeschichtungen,
  • - Laserbearbeitung,
  • - Laserschneiden,
  • - Laserbeschriftung,
  • - Formatieren und Trennschleifen.

zur Verfügung. Die Bearbeitung kann dadurch auf den späteren Einsatzzweck abgestimmt werden.

Gerade bei kundenspezifischen Projekten ist es sinnvoll, Substratbeschaffung und nachgelagerte Bearbeitungsschritte gemeinsam zu betrachten.

Saphir-Wafer direkt nach Spezifikation anfragen

Sie benötigen Saphir-Wafer mit einer bestimmten Kristallorientierung, Oberflächenqualität oder Geometrie?


Senden Sie uns Ihre technischen Anforderungen und die gewünschte Stückzahl. Wir prüfen die passende Ausführung und unterstützen Sie bei Bedarf bei der Definition noch offener Spezifikationen.


Neben kundenspezifischen Anforderungen lohnt sich auch ein Blick in den Lagerbestand. Dort können verfügbare Saphir-Wafer unter anderem nach Durchmesser, Orientierung und Dicke ausgewählt werden.


Jetzt Saphir-Wafer anfragen!

Typische Saphir-Wafer Spezifikationen:

Diameter
2" (50.8 mm)
3" (76.2 mm)
100 mm
125 mm
150 mm
200 mm

Growth
Kyropolos
HEM

Purity
≥99.99 %

Orientation
C-Plane (0001)
A-Plane (11-20)
R-Plane (1-102)
M-Plane (10-10)

Surface Finish
Optical Polished
Epi-Polished
Fine Ground
As Lapped

Surface roughness
Polished: Ra<=0.3 nm
Fine Ground: <1 µm
As Lapped: <1 µm

FAQ – häufig gestellte Fragen über Saphir-Wafer

Was ist ein Saphir-Wafer?

Ein Saphir-Wafer ist ein hochreines Substrat aus monokristallinem Aluminiumoxid. Aufgrund seiner außergewöhnlichen Härte, optischen Transparenz und thermischen Stabilität wird ein Saphir-Wafer in zahlreichen Hightech-Anwendungen eingesetzt.

Welche Vorteile bietet ein Saphir-Wafer?

Ein Saphir-Wafer überzeugt durch eine hohe mechanische Festigkeit, hervorragende Kratzfestigkeit, hohe Temperaturbeständigkeit sowie eine ausgezeichnete chemische Beständigkeit.

Für welche Anwendungen wird ein Saphir-Wafer eingesetzt?

Ein Saphir-Wafer wird unter anderem in der LED-Industrie, der Optoelektronik, der Halbleitertechnik, Hochfrequenztechnik, Sensorik sowie für optische Fenster und wissenschaftliche Anwendungen verwendet.

Warum wird ein Saphir-Wafer als Substrat eingesetzt?

Ein Saphir-Wafer bietet eine hervorragende Kombination aus mechanischer Stabilität, thermischer Belastbarkeit und hoher Oberflächenqualität. Dadurch eignet er sich ideal als Trägersubstrat für anspruchsvolle Fertigungsprozesse.

Welche Größen sind für einen Saphir-Wafer verfügbar?

Ein Saphir-Wafer ist in verschiedenen Standarddurchmessern von 2 Zoll bis 200 mm erhältlich. Weitere Größen sind auf Anfrage möglich.

Kann ein Saphir-Wafer in kleinen Stückzahlen bestellt werden?

Ja. Ein Saphir-Wafer ist sowohl für Forschungsprojekte als auch für Kleinserien und industrielle Anwendungen erhältlich.

Welche Kristallorientierungen sind für einen Saphir-Wafer erhältlich?

Ein Saphir-Wafer ist unter anderem in C-Plane (0001), A-Plane (11-20), R-Plane (1-102) und M-Plane (10-10) erhältlich.

Was ist der Unterschied zwischen einem C-Plane-Saphir-Wafer und einem R-Plane-Saphir-Wafer?

Ein C-Plane-Saphir-Wafer wird häufig für die Epitaxie von GaN und LED-Anwendungen eingesetzt. Ein R-Plane-Saphir-Wafer bietet dagegen Vorteile für bestimmte optische und elektronische Anwendungen, bei denen andere Kristalleigenschaften gefragt sind.

Welche Oberflächenqualität besitzt ein Saphir-Wafer?

Ein Saphir-Wafer ist je nach Anwendung optisch poliert, epi-poliert, fein geschliffen oder geläppt erhältlich.

Was bedeutet Epi-Politur bei einem Saphir-Wafer?

Bei einer Epi-Politur wird die Oberfläche eines Saphir-Wafers besonders fein bearbeitet. Dadurch entstehen ideale Voraussetzungen für epitaktische Beschichtungsprozesse.

Was ist der Unterschied zwischen einem Kyropoulos-Saphir-Wafer und einem HEM-Saphir-Wafer?

Ein Kyropoulos-Saphir-Wafer und ein HEM-Saphir-Wafer unterscheiden sich im Herstellungsverfahren. Welches Verfahren besser geeignet ist, hängt von den Anforderungen der jeweiligen Anwendung und den gewünschten Materialeigenschaften ab.

Kann ein Saphir-Wafer beschichtet werden?

Ja. Ein Saphir-Wafer kann beispielsweise mit einer Antireflexbeschichtung versehen oder für weitere Prozessschritte vorbereitet werden.

Was kostet ein Saphir-Wafer?

Der Preis eines Saphir-Wafers hängt unter anderem von Durchmesser, Dicke, Kristallorientierung, Oberflächenqualität und Stückzahl ab.

Kann ein Saphir-Wafer für Serienprojekte geliefert werden?

Ja. SIEGERT WAFER beliefert sowohl Forschungsprojekte als auch industrielle Serienkunden mit Saphir-Wafern.