DeutschAls erfahrener Lieferant für Siliziumwafer versorgen wir Universitäten, Forschungslabore und die Industrie mit hochwertigen Silizium-Wafern für unterschiedlichste Anwendungen. Ob für Forschung, Entwicklung oder industrielle Prozesse: Wir liefern Silizium-Wafer in nahezu jeder gewünschten Spezifikation und unterstützen Sie dabei, die passende Lösung für Ihren Einsatzzweck zu finden. Bei uns erhalten Sie hochreine Silizium-Wafer sowohl aus dem Czochralski- (CZ) als auch aus dem Float-Zone- (FZ) Züchtungsverfahren. Neben gängigen Standardausführungen können individuelle Spezifikationen oft auch in kleinen Mengen realisiert werden – oftmals sogar kurzfristig als Lagerware. Im hauseigenen Reinraum können bei Bedarf selbst einzelne Silizium-Wafer separiert, spezifiziert und gemessen werden.
oder Lagerware prüfen!
Silizium-Wafer werden in zahlreichen technischen Bereichen eingesetzt, in denen präzise Materialeigenschaften, definierte elektrische Parameter und zuverlässige Oberflächenqualitäten gefragt sind. Sie dienen unter anderem als Substrate, Testwafer, Trägerwafer oder Ausgangsmaterial für mikroelektronische und mikrotechnische Prozesse.
Typische Einsatzbereiche sind beispielsweise die Halbleitertechnik, Sensorik, Mikrosystemtechnik, Photonik, MEMS-Anwendungen sowie Forschungs- und Entwicklungsprojekte an Universitäten und in Laboren. Je nach Anwendung können Durchmesser, Dotierung, Kristallorientierung, Widerstand, Dicke und Oberflächenfinish individuell auf den jeweiligen Prozess abgestimmt werden.
Die Anforderungen an Silizium-Wafer unterscheiden sich je nach Prozess und Einsatzgebiet deutlich. Deshalb liefern wir nicht nur Standardware, sondern unterstützen Sie auch bei der Auswahl geeigneter Parameter. Wenn Sie noch nicht sicher sind, welcher Silizium-Wafer für Sie geeignet ist, nennen Sie uns einfach Ihre technischen Anforderungen.
Mehr als 10000 Silizium-Wafer sind bei uns als Lagerware verfügbar. Dadurch können Standardanforderungen häufig kurzfristig bedient werden. Auch kleinere Mengen oder einzelne Silizium-Wafer lassen sich oft realisieren – ideal für Laborversuche, Prototypen oder projektspezifische Tests.
Nehmen Sie Kontakt mit uns auf – wir beraten Sie gerne persönlich.
Sie benötigen beschichtete, strukturierte oder formatierte Silizium-Wafer? Auf Wunsch stehen Ihnen verschiedene Veredelungsmöglichkeiten zur Verfügung. So können Silizium-Wafer gezielt für nachgelagerte Prozesse vorbereitet und an Ihre Anwendung angepasst werden.
Ob Beschichtung, Formatierung oder weitere Bearbeitungsschritte: Wir unterstützen Sie dabei, eine technisch passende Lösung für Ihre Anforderungen zu finden.
Diameter
2" (50.8 mm)
3" (76.2 mm)
100 mm
125 mm
150 mm
200 mm
300 mm
Grade
Prime
Test
Monitor
Dummy
Reclaim
Growth
CZ (Czochralski)
FZ-HPS (Float-Zone, Hyper Pure Silicon)
FZ-NTD (Float-Zone, Neutron Transmutation Doping)
FZ-GD (Float-Zone, Gas Doped)
Type/Dopant
P/B (Boron)
N/Ph (Phosphorus)
N/Sb (Antimony)
N/As (Arsenic)
Undoped
Intrinsic (only FZ)
Orientation
<100>
<111>
<110>
...
Resistivity
0.001 - 50,000 Ohm-cm
Thickness
100 - 8,000 µm
Surface Finish
Single Side Polished (SSP)
Double Side Polished (DSP)
As cut
Lapped
Etched
Flat / Notch
SEMI-Std.
Single Flat
Jeida Flat
Notched
None (Round)
Ein Silizium-Wafer ist eine hochreine, dünne Scheibe aus monokristallinem Silizium. Silizium-Wafer dienen als Basismaterial für die Herstellung von Mikrochips, Sensoren, MEMS-Bauteilen, Leistungselektronik und weiteren Halbleiteranwendungen.
SIEGERT WAFER verfügt über mehr als 20 Jahren Erfahrung im Bereich Silizium-Wafer und bietet technische Beratung, hohe Qualitätsstandards sowie individuelle Lösungen für Forschung und Industrie.
Silizium-Wafer werden in der Halbleiterindustrie, Sensorik, Mikroelektronik, Leistungselektronik, Photonik sowie in Forschungs- und Entwicklungsprojekten eingesetzt.
Ja, wir beliefern Universitäten, Forschungsinstitute, Entwicklungsabteilungen und Industrieunternehmen weltweit mit Silizium-Wafern.
Ja. Anhand Ihrer Anwendung können wir die fehlenden Spezifikationen gemeinsam definieren und einen geeigneten Silizium-Wafer empfehlen.
Ja, neben Serienmengen können auch einzelne Silizium-Wafer oder Kleinserien für Forschung und Entwicklung geliefert werden.
SIEGERT WAFER bietet Silizium-Wafer in verschiedenen Standarddurchmessern von 2 Zoll (50,8 mm) bis 300 mm an.
Ja, individuelle Silizium-Wafer werden nach Ihren technischen Anforderungen gefertigt.
Gängige Kristallorientierungen für Silizium-Wafer sind <100>, <111> und <110>. Weitere Orientierungen sind auf Anfrage möglich.
SIEGERT WAFER liefert p-dotierte Silizium-Wafer mit Bor sowie n-dotierte Silizium-Wafer mit Phosphor, Arsen oder Antimon. Auch undotierte Silizium-Wafer sind verfügbar.
CZ-Silizium-Wafer werden nach dem Czochralski-Verfahren hergestellt und eignen sich für zahlreiche Standardanwendungen. FZ-Silizium-Wafer werden im Float-Zone-Verfahren gefertigt und zeichnen sich durch höchste Reinheit sowie einen besonders niedrigen Sauerstoffgehalt aus.
Die erreichbaren Toleranzen hängen von dem Durchmesser, der Dicke und den Anforderungen Ihrer Anwendung ab.
Silizium-Wafer sind mit einseitig polierter Oberfläche (SSP), doppelseitig polierter Oberfläche (DSP) oder kundenspezifischen Oberflächenbearbeitungen erhältlich.
Die Lieferzeit hängt von der Verfügbarkeit und den gewünschten Spezifikationen ab. Lagerware kann häufig kurzfristig (weniger als 1 Woche) versendet werden.
Ja, SIEGERT WAFER bietet verschiedene Dienstleistungen für Silizium-Wafer an, darunter Schleifen, Polieren, Beschichten und Vereinzeln.
Für MEMS-Anwendungen werden häufig Silizium-Wafer mit definierter Kristallorientierung, enger Dickentoleranz und hochwertiger Oberflächenqualität eingesetzt. Insbesondere werden, die bei SW in eigenem Produktionsbetrieb hergestellten SOI-Wafer bei viele MEMS-Applikationen weltweit eingesetzt.
Die Auswahl des geeigneten Silizium-Wafers hängt vom Sensortyp, der Prozessführung und den elektrischen Anforderungen ab. Unsere Experten unterstützen Sie gerne bei der Auswahl.