Silizium-Wafer

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50 Treffer 

Overall
Device
BOX
Handle
AI46003
150
0,2
/
Double Side Polished
N
RPh
<100> ±0.2°
0.01-0.02
40 ±0.3 µm
<1 µm
2.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.2°
0.01-1
710 ±5 µm
/
132
SiO2 on backside
E43013
76,2
0,5
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
1-10
5 ±0.5 µm
<1 µm
0.25 µm ±5 %
P
B
<100> ±0.5°
1-20
380 ±15 µm
/
16
/
E46012
150
0,5
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-50
40 ±1 µm
<2 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-50
610 ±15 µm
<3 µm
3
+ 2000 nm SiO2
AI46001
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
25 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
231
SiO2 on backside
AI46002
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
48.6 ±0.5 µm
<1 µm
2.0 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
<0.002
500 ±5 µm
/
168
SiO2 on backside
AI46004
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
25 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
33
SiO2 on backside
AI46005
150
0,2
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
22 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
28
SiO2 on backside
AI46006
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
4.6 ±0.4 µm
<1 µm
2.1 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
97
SiO2 on backside
AI46008
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
1.5 ±0.3 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
36
SiO2 on backside
AI46009
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
14 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±10%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
300 ±5 µm
/
4
SiO2 on backside
AI46010
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
3.0 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
300 ±5 µm
/
8
SiO2 on backside
AI46011
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
40 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
65
SiO2 on backside
AI46012
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
9 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±10%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
400 ±5 µm
/
25
SiO2 on backside
AI46013
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
155 ±2 µm
/
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
1000 ±7 µm
/
22
SiO2 on backside
AI46014
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
5 ±0.5 µm
<1 µm
1 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
550 ±5 µm
/
4
SiO2 on backside
AI46015
150
0,2
/
Double Side Polished
N
RPh
<100> ±0.5°
<0.002
200 ±5 µm
/
3 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
42
SiO2 on frontside
AI46016
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
115 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
525 ±5 µm
/
5
SiO2 on backside
AI46017
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
18.5 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
380 ±5 µm
/
16
SiO2 on backside
AI46018
150
0,2
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
200-500
25 ±1 µm
/
1.5 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
380 ±20 µm
/
50
SiO2 on frontside
AI46019
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
120 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
525 ±5 µm
/
15
SiO2 on backside
AI46020
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
22 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
4
SiO2 on backside
AI46021
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
28.4 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
6
SiO2 on backside
AI46022
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
60 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
500 ±5 µm
/
4
SiO2 on backside
AI46023
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
17-23
2.1 ±0.4 µm
<1 µm
0.5 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
4.8-7.2
675 ±5 µm
/
12
SiO2 on backside
AI46024
150
0,2
/
Double Side Polished
N
RPh
<100> ±0.5°
0.02-0.04
2 ±0.4 µm
<1 µm
1 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
400 ±5 µm
/
20
SiO2 on backside
AI46025
150
0,2
/
Double Side Polished
N
RPh
<100> ±0.5°
0.01-0.02
60 ±0.6 µm
<1 µm
0.5 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
0.01-0.02
500 ±5 µm
<1 µm
24
SiO2 on backside
AI46026
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
9 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±10%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
300 ±5 µm
/
25
SiO2 on backside
AI46027
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
32 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
49
SiO2 on backside
AI46028
150
0,2
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
140 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
350 ±5 µm
/
2
SiO2 on backside
AI46029
150
0,2
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
24 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
350 ±5 µm
/
3
SiO2 on backside
AI46030
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
4.6 ±0.4 µm
<1 µm
2.1 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
550 ±5 µm
/
5
SiO2 on backside
AI46032
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
5 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
400 ±5 µm
<1 µm
8
SiO2 on backside
AI46033
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
3 ±0.5 µm
<1 µm
1.5 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
300 ±5 µm
/
25
SiO2 on backside
AI46035
150
0,2
/
Double Side Polished
N
RPh
<100> ±0.5°
0.01-0.02
27 ±0.5 µm
<1 µm
1 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
0.01-0.02
300 ±5 µm
/
11
SiO2 on backside
AI46036
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.3-0.5
30 ±0.5 µm
<1 µm
2 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-10
300 ±5 µm
/
9
SiO2 on backside
AI46037
150
0,2
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
1-4
50 ±0.5 µm
<1 µm
2 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-10
500 ±5 µm
/
21
SiO2 on backside
AI46038
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
150 ±2 µm
<2
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
500 ±5 µm
<2
46
SiO2 on backside
AI46039
150
0,2
/
Double Side Polished
N
RPh
<100> ±0.5°
<0.015
62 ±0.5 µm
<1 µm
1 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
<0.015
500 ±5 µm
/
17
SiO2 on backside
AI46040
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
20 ±0.5 µm
<1
2.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
5
SiO2 on backside
AI46041
150
0,2
/
Double Side Polished
N
Sb
<100> ±0.5°
0.01-0.02
10 ±0.4 µm
<1
2.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
10-20
400 ±5 µm
<1
12
SiO2 on backside
AI46042
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
300 ±3 µm
<1
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
625 ±5 µm
<1
9
SiO2 on backside
AI46043
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
20 ±0.5 µm
<1
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
0.01-0.02
380 ±5 µm
<1
25
SiO2 on backside
AI46044
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
49 ±0.5 µm
<1
1.0 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
<0.002
500 ±5 µm
/
21
SiO2 on backside
AI46045
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
5 ±0.5 µm
<1 µm
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
/
55
SiO2 on backside
AI46046
150
0,2
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
1-10
8 ±0.5 µm
<1 µm
0.5 µm ±10%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-10
400 ±5 µm
/
37
SiO2 on backside
AI46047
150
0,2
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
/
15 ±1 µm
/
0.5 µm ±10%
N
Ph
<100> ±0.5°
3-9
500 ±5 µm
/
1
SiO2 on backside
AI46048
150
0,2
/
Double Side Polished
N
Ph
<100> ±0.5°
0.01-0.02
48.6 ±0.5 µm
<1
2.0 µm ±5%
N
RPh
<100> ±0.5°
0.001-0.005
500 ±5 µm
/
21
SiO2 on backside
AI46049
150
0,2
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-5
120 ±0.5 µm
<1
1.0 µm ±5%
P
B
<100> ±0.5°
1-5
400 ±3 µm
/
10
SiO2 on backside
E48023
200
0,5
/
Double Side Polished
P
B
<100> ±0.5°
1-50
60 ±1.5 µm
<2 µm
1.0 µm ±5 %
P
B
<100> ±0.5°
>1000
670 ±15 µm
<10 µm
2
/
AI46034
150
0,2
/
Double Side Polished
N
RPh
<111> ±0.5°
0.01-0.04
150 ±1 µm
<1.5 µm
1.0 µm ±5%
N
Ph
<100> ±0.5°
1-5
380 ±5 µm
<1.5 µm
5
SiO2 on backside
Anfrage Lagerbestand